三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体 它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O

高中 已帮助: 时间:2025-06-18 04:52:21

三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF.下列有关该反应的说法正确的是(  )
A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C.若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

难度:⭐⭐⭐

题库:高中,化学

标签:氟化,还原剂,氧化剂

参考解答

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420***137

2025-06-18 04:52:21

A.只有N元素的化合价发生变化,NF3既是氧化剂又是还原剂,故A错误;
B.NF3生成NO,被还原,NF3生成HNO3,被氧化,还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1,故B正确;
C.生成0.2molHNO3,转移的电子的物质的量为0.2mol×(5-3)=0.4mol,故C错误;
D.生成的NO易与空气中氧气反应生成红棕色气体二氧化氮,故D正确.
故选BD.

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