三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体 它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+
| 三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应： 3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:
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参考解答
420***137
2025-06-17 16:10:44
| D |
试题分析：NF3中氮元素化合价为+3价，2/3降低为+2价的NO，1/3升高为+5价的HNO3，为还原剂；A、NF3是氧化剂和还原剂，错误；B、还原剂与氧化剂的物质的量之比为1:2，错误；C、若生成0.2mol HNO3，则转移0.4mol电子，错误；D、正确。 |
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