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从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料。请回答下列问题： (1) 地壳里各种元素的含量（质量分数)如图所示，其中表示硅元素的是             (填字母)。

(2)根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质              (选填“活泼”、“不活泼”)。 (3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：

①整个制备过程必须达到无水无氧。在H2还原SiHCl3过程中若混入O2 ，可能引起的后果是                    ②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为                  。 ③在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是                  ；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是                  。

参考解答

4j8***142

2025-07-06 13:43:59



（1）B （2）不活泼 （3） ① 爆炸（或硅被氧化或得不到高纯硅） ② Si + 3HClSiHCl3 + H2 ③ HCl ；H2

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