三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体 它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O

高中 已帮助: 时间:2025-06-17 13:23:30

三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是(   )
A.NF3分子中所有原子共平面B.NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂
C.生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子D.氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1

难度:⭐⭐⭐

题库:高中,化学

标签:氟化,产物,反应

参考解答

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413***137

2025-06-17 13:23:30

B

试题分析:A、NF3的结构类似于NH3,为三角锥,不共面,错误;B、NF3中N元素的化合价为+3,部分升高为+5价,部分降低为+2价,既做氧化剂又做还原剂,正确;C、生成0.2mol HNO3时转移电子:0.2mol×2=0.4mol,错误;D、氧化产物为HNO3,还原产物为NO,所以氧化产物与还原产物的物质的量之比为1:2,错误。

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